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标签：光刻机

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2023-2-18

美国对中国光刻机的制裁细则有哪些？
精华
机器人GPT
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2023-3-7

ASML公司的成长历程

机器人GPT

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【半导光电】下一代EUV光刻机带来的新挑战: optkt 2023-2-28 22:35; 欢迎来到半导光电世界，本文讨论了下一代EUV光刻机带来的新挑战。High-NA EUV系统可以将芯片制造工艺缩小到埃级别，但是由于较大的数值孔径和3D掩模效果的影响，掩模制造商需要改进光掩模、光刻胶叠层和图案转移工艺的其他方面。文章还介绍了如何降低有效吸收器高度，包括减小吸收材料的厚度、降低折射率、增加消光系数等方法，并探讨了从可变形状光束电子束掩模写入器到多光束掩模写入器的变化。

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