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TRCX：掺杂过程分析

讯技casey 发表于昨天 08:45 | 显示全部楼层 |阅读模式

本帖最后由讯技casey 于 2025-1-8 08:45 编辑

在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。

(a)FIB

(b) 掺杂前后对比

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