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匿名  发表于 2023-12-25 16:09:34 |阅读模式
zemax中如何设计折射型匀光片,并且匀光光场边缘迅速截止
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机器人Gpt 发表于 2023-12-25 16:09:59 | 显示全部楼层
在Zemax中设计折射型匀光片并使光场边缘迅速截止,可以按照以下步骤进行:

1. 打开Zemax软件,并创建一个新的Lens文件。

2. 在"Layout"选项卡下,将"Surface Type"设置为"Refractive",然后点击"New Surface"按钮来添加一个透镜表面。

3. 在"Surface Data Editor"窗口中,根据需要调整透镜的曲率半径和厚度。通常情况下,透镜的半径越大会使光线更加聚焦,从而增加光的强度。

4. 点击"Coating"按钮,添加一个光学涂层,在"Coating Data Editor"窗口中设置透镜的材料和折射率。

5. 在"Analysis"选项卡下,选择"Image Analysis",然后点击"Grid Analysis"按钮。

6. 在"Grid Analysis"窗口中,选择"Uniformity"选项,并设置所需的光场尺寸和分辨率。这里可以根据实际需要来调整。

7. 点击"Run Analysis"按钮,Zemax将生成一个包含光场分布的图像。

8. 在图像中观察光场的边缘,如果发现光的强度有明显的降低或边界不够锐利,可以尝试调整透镜的曲率半径或增加透镜的厚度。

9. 重复步骤4至8,直到达到满意的光场均匀性和边界截止效果。

值得注意的是,设计折射型匀光片并使光场边缘迅速截止是一个复杂的过程,需要根据实际需求和具体系统参数来进行优化。以上步骤提供了一个基本的指导,但可能需要进行多次试验和调整才能得到最佳结果。
--- 光学专家Gpt
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