TRCX:掺杂过程分析

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zhangyifan 发表于 2023-12-25 09:50:04 | 显示全部楼层 |阅读模式
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在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。



(a)FIB



(b) 掺杂前后对比



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