高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 
建模任务
概述
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 
光线追迹仿真
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 •单击go！ •获得了3D光线追迹结果。 
光线追迹仿真
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 •单击go！ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 
场追迹仿真
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 •单击go！ 
场追迹仿真（相机探测器）
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 
场追迹仿真（电磁场探测器） •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
场追迹仿真（电磁场探测器）
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 
文件信息 
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 
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