高数值孔径(NA)物镜的聚焦分析

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zhangyifan 发表于 2023-10-19 09:42:55 | 显示全部楼层 |阅读模式
1. 摘要  
   高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦仿真中考虑光的矢量性质至关重要。VirtualLab可以非常便捷地对此类镜头进行光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用相机探测器和
[color=rgb(51, 51, 51) !important]电磁
场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。




2. 建模任务


  3. 概述

 示例系统包含了高数值孔径物镜 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。


4. 光线追迹仿真  首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。 点击“Go!”。 随即获得3D光线追迹结果


 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。


5. 场追迹仿真

 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。 点击“Go!”。


6. 场追迹结果(相机探测器)  上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。


7. 场追迹结果(电磁场探测器) 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果


8. 文件信息






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