在光学设计中,常见的离轴方式包括偏振离轴和非偏振离轴。这两种方式有一些区别。
1. 偏振离轴(Polarization Aberration):这种方式将考虑光束的偏振状态对光学系统的影响。在光束经过离轴元件时,偏振方向可能发生变化并引起偏振畸变。
2. 非偏振离轴(Non-Polarization Aberration):这种方式只考虑光束的传播路径和光线尺寸的变化,忽略了偏振效应对光学系统的影响。
在Zemax中,可以通过设置来选择使用哪种方式进行离轴分析。具体设置步骤如下:
1. 打开Zemax软件,并打开你的光学系统。
2. 在"Layout"标签页下,点击"System Explorer"按钮,进入系统编辑界面。
3. 在系统编辑界面,选择要进行离轴分析的位置(例如离轴点)。
4. 点击"New Analysis"按钮,在弹出菜单中选择"Off-Axis"。
5. 在"Off Axis Analysis"对话框中,选择"Type"为"olarization"或"Non-Polarization",根据你需要进行的离轴方式选择。
6. 根据需要设置其他参数,例如离轴角度、离轴位置等。
7. 点击"OK"按钮,完成离轴设置。
通过这样的设置,你可以在Zemax中进行离轴分析,并根据需要选择使用偏振离轴或非偏振离轴方式来评估光学系统的性能。
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