Ansys Zemax光学设计软件技术教程:如何對中間面進行優化

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wavelab86 发表于 2023-5-9 09:49:24 | 显示全部楼层 |阅读模式
這篇文章將示範如何使用預設的評價函數(merit function)工具和IMSF操作數(operand)對任意面進行優化。
作者 Nam-Hyong Kim
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範例檔案
簡介
在模擬軟體中建構光學系統時,有時會必須對特定中間面(intermediate surface)進行優化的情形。步槍上的狙擊鏡系統就是一個具代表性的例子。這個系統將物體放置在無窮遠處,並配合人眼的位置將入射光匯聚成像。此時,為了達到最好的聚焦結果,系統會對非原始成像面的某特定光學面的影像品質有較高的要求。為了解決類似的問題,OpticStudio提供了一個好用的工具: IMSF操作數。
在評價函數編輯器(merit function editor)中,IMSF重新定義了像面(image surface)。如此一來,系統的成像可以在使用者偏好的中間面(intermediate surface)進行優化,而不再被侷限於真實的像面(true image surface)。這篇文章將說明IMSF操作數的使用步驟及注意事項。
IMSF 操作數
位於評價函數編輯器(Merit Function Editor)中的優化精靈(Optimization Wizard)會根據現有的像面(即Lens Data Editor中最後的面)參數建立評價函數。舉例而言,RMS光斑尺寸(spot size)優化函數針對光斑大小進行評估時,會選擇最後一面為像面。而RMS波前(wavefront)優化函數,則需要根據光線在出瞳(exit pupil)的表現進行計算。綜合上述,在使用IMSF操作數時,像面不再是系統的最後一面,在這種情況下出瞳就必須被重新定義。
使用IMSF優化操作數時,我們可以針對系統中任意面進行評價函數的計算。在範例檔案中,如果想對第3面(surface #3)進行最小RMS光斑(minimum RMS spot)的優化,並同時在像面(#6)達到最佳準直度(best collimation),我們可以使用預設的評價函數工具(default merit function tool)和IMSF優化操作數(IMSF optimization operand)。而此時系統的優化變數為第二和第五面(surface #2, #5)的曲率半徑(Radius)以及第二面的圓錐係數(Conic)。
3D_layout.png.jpg
如果你對於使用預設優化函數(default merit function)還不是很熟悉,可以先閱讀這篇文章
開啟範例檔案並依照以下步驟進行模擬將會讓你對IMSF操作數有更多的了解。
在優化(Optimize)工具列中選取優化精靈(Optimization Wizard),接著設置RMS光斑半徑(spot radius)優化函數。
Default_merit_function.png.jpg
在DMFS (Default Merit Function Start)上方插入欄位並設定型態為IMSF,接者指定第3面(surface #3)為RMS光斑半徑(spot radius)優化函數的參考對象。
Merit_function_editor.png.jpg
在最後一個操作數下方插入空白欄位(BLNK)作為第12個操作數。
如下圖,在Optimization Wizard中將優化目標(Criterion)設定為角度(Angular),並從第12列開始執行。
RMS_angular_radius.png.jpg
在第二個DMFS上方插入另一個IMSF欄位,接著將表面(Surface)參數設定為6 (此表面即為像面)。
insert_IMSF_operand_before_the_second_DMFS.png.jpg
這個優化函數會針對第3面(surface #3)的最小RMS光斑尺寸和最佳準直度(best collimation)進行優化。同時,在第6面(image surface)也可以得到最小角光斑半徑(angular spot radius)的結果。
在優化(Optimize)工具列中點選Optimize!,最後按下Start。你將得到下圖中的結果。
3D_layout_2.png.jpg
在這個範例中,OpticalStudio同時使用兩個不一樣的優化目標(criteria)對系統的兩個面進行優化。當光學系統的複雜度提升,如果要使用相同的優化函數對一個以上的中間面(intermediate surface)進行優化,你會發現在優化函數中設置多個IMSF操作數會是一個可行的辦法。且在優化的過程中,每個面可以設定不同的優化目標。
使用IMSF 操作數時的注意事項
在修改像面參數時,有幾個需要特別注意的地方。
首先,如果視場型態(field type)原本是以真實(real)或者近軸(paraxial)像高定義,在有限(finite)或無限長度的共軛(infinite conjugate)系統中,視場型態的定義方式會分別變更為角度(angle)或物高(object height)。而在這裡所使用的角度及高度,是依據原始系統中的主光線(chief ray)在主波長(primary wavelength)的情況下得到的數值。
此外,如果你將新的像面位置設定在原始光欄(stop)的前方,OpticalStudio會自行將光欄面移到第1面(surface #1)前方的一個虛擬空間。在這個情況下,除非光圈(system aperture)是「物空間數值孔徑(Object space NA)」或者「物體圓錐角(Object Cone Angle)」的型態,否則光圈類型都將被更改為「入瞳直徑(Entrance Pupil Diameter)」。且系統會根據原始像面的位置,將光圈更改成原始近軸入瞳的大小。注意,當「光線瞄準(ray aiming)」功能被開啟時,上述的設定將不會成立。
多重組態(multiple configuration)是另一個評價多平面系統表現的方法。在設定(Setup)工具列中點選「產生共軛系統(Make Conjugate)」。這個選項可以幫助你重新定義物體、光欄(stop)和影像等面,同時也可以根據需求改變系統的光圈(aperture)、視場定義(field definition)以及光線瞄準(ray-aiming)的使用等。
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