二维周期光栅结构的配置(下)

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cherryjhy 发表于 2022-12-21 08:50:57 | 显示全部楼层 |阅读模式
 此外,还提供了关于层数和转换点的信息。
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述。折射率用色标表示。
 定义的柱栅分解预览(俯视图)。
 •VirtualLab建议将其离散化为2层(1层表示基底)。

1-1Z51510411Q43.png
基于界面的定义类型
(例如:截锥光栅)
1. 堆栈编辑器
1-1Z515104143320.png
2. 截锥光栅
 在本例中,使用了“截锥光栅界面”。
 这种类型的界面可以模拟圆形的高透射结构。
 在本例中,锥体是由位于同一材料基体上的熔融二氧化硅制成的。
1-1Z515104210501.png

 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。
 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。
 请注意:界面的顺序总是从基底的表面开始计算。
 选中的界面以红色高亮显示。
 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。
 这种材料可以在光学设置编辑器中更改。
1-1Z515104312963.png

 此外,锥体的材料会自动从界面之后的材料中取出。
 在本例中,这意味着使用基底(基块)的材料。
 如果光栅结构是由不同的材料制成的,则必须添加额外的平面界面,以便将光栅结构与底座分离。
 然后根据需要选择截锥与平面界面之间的材料。
 堆栈周期允许控制整个配置的周期。
 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。
该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。 对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。
3. 截锥光栅参数
柱栅是一个可编程接口,由以下参数定义:
1-1Z5151043504G.png
 锥高度
 高度因子(例如允许反转结构)
 顶部直径
 底部(基底)直径
 光栅周期在x和y方向
 材料自动设定
   1-1Z51510440L40.png
 由于这是一个通用的可编程界面,光栅周期必须在周期选项卡中设置。
1-1Z515104452110.png
 这也意味着光栅的定义及其参数可以通过调整定义结构的代码很容易地进行调整。
1-1Z5151044261D.png

4. 高级选项&信息
 在传播菜单中有几个高级选项可用。
 propagation method选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。
 可以设置每个方向上考虑的总阶数或倏逝波阶数。
 这可能是有用的,尤其是如果考虑金属光栅。
 相反,对于电介质光栅,默认设置就足够了。
1-1Z515104532X6.png
 Advanced Settings选项卡提供关于结构分解的信息。
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散性。默认设置适用于几乎所有光栅结构。
 此外,还提供了关于层数和转换点的信息。
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述。折射率用色标表示。
1-1Z515104554448.png
1-1Z5151046325O.png

5. 关于探测器位置的注释
 在VirtualLab中,探测器默认位于基底后面的空气中。
 如果光栅包含在复杂的光学设置中,这是必要的。
 然而,完美的平面和平行的基底可能会产生一些干扰效果,而在现实中不会发生。
 因此,为了计算光栅效率,将检测器设置在基底材料内部是合适的(大多数光栅评估软件也是如此)。
 这避免了那些干扰效果的不良影响。
1-1Z515104AQ56.png
6. 文件信息

1-1Z515104HW39.png




更多阅读
- Configuration of Grating Structures by Using Interfaces
- Configuration of Grating Structures by Using Special Media


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