分析高数值孔径物镜的聚焦特性

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cherryjhy 发表于 2022-11-21 17:34:26 | 显示全部楼层 |阅读模式
摘要

高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。

1-191125164532947.png

建模任务

1-1911251A00R22.png
概述

•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。
•接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。

1-1911251A211D3.png


光线追迹仿真

•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。
•单击go!
•获得了3D光线追迹结果。

1-1911251A23G14.png


光线追迹仿真

•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
•单击go!
•结果得到点图(二维光线追迹结果)。

1-1911251A311b4.png


场追迹仿真

•切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
•单击go!

1-1911251A335531.png

场追迹仿真(相机探测器)

•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。

1-1911251A41O04.png


场追迹仿真(电磁场探测器)
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。

1-1911251A519A0.png

场追迹仿真(电磁场探测器)

•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。

1-1911251A5594c.png


文件信息

1-1911251A6203V.png


更多阅读

-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination


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