设计和分析GRIN扩散器（完整）
教程565（1.0）1.模拟任务
本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
设计包括两个步骤：
- 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
- 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前，我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
照明光束参数
波长：632.8nm
激光光束直径（1/e2）：700um
理想输出场参数
直径：1°
分辨率：≤0.03°
效率：>70%
杂散光：<20%
2.设计相位函数
相位的设计请参考会话编辑器
Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
设计没有离散相位级的phase-only传输。
3.计算GRIN扩散器
GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板，和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
最大折射率调制为△n=+0.05。
最大层厚度如下：
4.计算折射率调制
从IFTA优化文档中显示优化的传输
将传输相位转变为实部，通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
生成正向函数，通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
乘以最大调制折射率（0.05），通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
将数据转换成数据阵列：Manipulation→Create Numerical Data Array（参见下一张）。
数据阵列可用于存储折射率调制。
选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
5.X/Y采样介质
GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。
这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
元件厚度对应于层厚度12.656μm。
折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
应该选择像素化折射率调制。
优化的GRIN介质是周期性结构。
只优化和指定一个单周期。
介质必须切换到周期模式。周期是
1.20764μm×1.20764μm。
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