高NA物镜聚焦的分析
摘要高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
建模任务
概观
光线追迹仿真
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
•点击Go！
•获得3D光线追迹结果。
光线追迹仿真
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
•单击Go！
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
场追迹仿真
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
•单击Go！
场追迹结果（摄像机探测器）
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
场追迹结果（电磁场探测器）
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
文件信息
更多阅览
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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